三星將于2025年初從ASML引進(jìn)High-NA EUV光刻機(jī) 新帖
《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》30日訊，據(jù)報(bào)道援引消息人士稱，三星電子將從ASML引進(jìn)首臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)EXE:5000，預(yù)計(jì)2025年初到貨。半導(dǎo)體設(shè)備安裝通常需要較長(zhǎng)測(cè)試時(shí)間，該光刻機(jī)預(yù)計(jì)最快2025年中旬開(kāi)始運(yùn)行。High-NA EUV為2納米以下先進(jìn)制程所需設(shè)備，韓國(guó)業(yè)界預(yù)期，三星也將正式啟動(dòng)1納米芯片的商用化進(jìn)程。
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